「中華民國國際版畫雙年展」自1983年開始開辦以來，迄今已是第17屆，歷程多年未曾中斷，每年皆吸引世界各國的版畫藝術創作者參與，是現存歷史最悠久的版畫雙年展之一。國際性競賽型雙年展的舉辦，不僅能提升國內版畫創作者的格局視野，提供國際競獎及展出的機會，也能促進臺灣與國際間的版畫藝術交流。藉由展覽讓觀眾得以吸收各國的藝術精華、提升藝文涵養，另一方面從中觀察全球版畫藝術創作的趨勢。
2016年國際版畫雙年展徵件計來自全球80國家1240位藝術家報名參賽，經過初審評審團共同推選出36國205件優秀版畫創作入選參展，並進入第二階段複審程序。版畫雙年展長期以來在亞洲各國深耕並累積極高知名度與參與度，以往的得獎者多數為亞洲版畫大國，如日本、韓國、泰國及臺灣，但本屆的得獎者卻出現了以往鮮在雙年展競逐的中南美洲藝術家。例如本屆金牌獎是來自秘魯的年輕藝術家Luis Antonio TORRES VILLAR，而評審團特別獎之一是哥倫比亞的青年藝術家Orlando MARTINEZ，值得觀察與讚揚。展望未來，版畫雙年展更希望可以拓展到世界各國。
從作品中能發掘，其中具有多元的版畫技術，呈現各國不同的文化風貌，除了應用傳統古法的木刻版畫與凸版技術，因應時代潮流演變所產生的數位版畫也有日趨多元與豐富的樣貌。當代藝術家創作通常與身處的時代有所關聯，但這次作品大多偏向內心世界的探索，如理想國的想像、自我記憶的探索或是自身與時空的串連，較少直接朝向批評政治及環境議題，使用隱喻或歷史文化圖像等方式間接表達，也希望觀眾可以引發自身的共鳴。
觀看展覽的過程中，可以從中細細地品味每一幅畫的巧思、使用的素材、背後的巧思等等，來自各國風情各異的版畫、迥異的表現手法，每一幅作品背後皆融入了作者自身的情感表達，不變的是，藝術語言的共通性。期盼未來國際版畫雙年展能獲得更多國內外版畫家的重視與參與，共同豐富版畫創作的多元風貌及拓展版畫藝術的全球版圖。
展覽地點:國立台灣美術館101、102展覽室
展覽日期:105/06/25 ~ 105/08/28
開放時間: 星期二至星期五09:00~17:00/星期六、星期日09:00~18:00